(相关资料图)

1、1. 清洗硅片并准备掩膜：1）浓H2SO4/H2O2=3﹕1，15min（配1次洗液可以用1周；H2O2 30%）；2）打开电热板调至200℃；掩膜准备；2. 超纯水清洗硅片；注释：用镊子夹着硅片，不能使硅片放干；3. 无水乙醇清洗硅片。

2、1min（摇动或超声），不用水洗！4. 丙酮清洗硅片，1min（摇动或超声）；5. 超纯水清洗；6. 吸水纸吸取边缘水分（勿放于吸水纸上）；7. 用镊子夹住硅片。

3、氮气吹干或者放在200℃电热板上方（不能接触），待彻底干后，放在电热板上5min；。

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